3M Liqui-Cel EXF-8x80脱气膜案例1：超净高纯试剂纯化脱气应用

 

3M Liqui-Cel EXF-8x80脱气膜案例1：超净高纯试剂纯化脱气应用

半导体行业超净高纯试剂生产对溶解气体含量要求近乎严苛，微量溶解气体会直接导致试剂纯度不达标，无法适配7nm以下先进制程，某湿电子化学品龙头企业针对超净高纯蚀刻液、显影液纯化工艺，选用3M Liqui-Cel EXF-8x80脱气膜，搭建超长流程深度脱气系统，突破传统脱气精度瓶颈。3M Liqui-Cel EXF-8x80脱气膜采用8×80加长型膜组件构型，气液接触行程更长、接触更充分，脱气深度远超常规尺寸脱气膜，适配2-3m³/h高纯试剂处理流量，膜材质采用耐强腐蚀特种材料，不与强酸、强氧化性试剂发生反应，无杂质析出、无膜丝溶胀，全程保障试剂纯度。该脱气膜采用多级真空耦合脱气工艺，可将试剂中溶解氧、二氧化碳、空气等所有气体脱除至0.3ppb以下，完全达到SEMI C12全球最高标准，适配先进晶圆制造制程需求。3M Liqui-Cel EXF-8x80脱气膜运行稳定性极强，无泄漏、无故障，可实现24小时连续化纯化生产，相比传统蒸馏脱气工艺，能耗降低70%，纯化效率提升85%，助力企业打破国外高纯试剂脱气技术垄断，产品成功打入先进半导体供应链。